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高温液体式加熱処理装置及び高温液体式加熱処理装置の運転方法
专利权人:
株式会社日阪製作所
发明人:
木戸 大展
申请号:
JP2017014569
公开号:
JP2018121544A
申请日:
2017.01.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To provide a high temperature liquid type heat treatment capable of appropriately performing heat treatment / cooling treatment on an object to be treated while suppressing damage of the treatment tank due to the influence of heat in a series of treatments Device.SOLUTION: The present invention relates to a processing tank including a tank body and a leg portion, a high temperature liquid supply system for supplying a high temperature liquid to the tank main body, a low temperature liquid supply system for supplying a low temperature liquid to the tank main body, A liquid discharge system for discharging the liquid and a control unit for controlling supply and discharge of the liquid to the tank main body, wherein the control unit causes the high temperature liquid supply system to supply the high temperature liquid from the high temperature liquid supply system to the first liquid level After discharging the high temperature liquid from the liquid discharge system, the low temperature liquid is supplied to the tank main body with a supply amount smaller than the discharge amount of the high temperature liquid discharged from the liquid discharge system, and the liquid level in the tank main body The low temperature liquid is supplied to the tank body from the low temperature liquid supply system to the first liquid level.BACKGROUND OF THE INVENTION【課題】 本発明は、一連の処理における熱の影響で処理槽が損傷することを抑えた上で、処理対象物に対して加熱処理・冷却処理を適正にすることのできる高温液体式加熱処理装置を提供する。【解決手段】 本発明は、槽本体及び脚部を含む処理槽と、槽本体に高温液体を供給する高温液体供給系統と、槽本体に低温液体を供給する低温液体供給系統と、槽本体から液体を排出させる液体排出系統と、槽本体に対する液体の供給及び排出を制御する制御部とを備え、制御部は、高温液体供給系統から槽本体に対して第一液位まで高温液体を供給させた後、高温液体を液体排出系統から排出させつつ、液体排出系統から排出される高温液体の排出量よりも少ない供給量で低温液体を槽本体に供給させ、槽本体内の液位が槽本体内の処理対象物よりも低い第二液位になると、低温液体供給系統から槽本体に対して第一液位まで低温液体を供給させる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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