The dental implant system includes a prosthetic contact surface of the implant analog such that the prosthetic contact surface of the implant analog matches one or more portions of the prosthetic contact surface of the implant. The same longitudinal cross-section and position relative to the implant abutment member contact surface and the longitudinal axis, the implant analog prosthesis contact surface at discrete locations around the implant analog perimeter and / or implant analog abutment member contact. Located at at least one radial location away from the surface, the prosthetic contact surface of the implant analog is therefore at least circumferentially and / or radially discontinuous relative to the prosthetic contact surface of the implant. [Selection diagram] Fig. 6歯科インプラントシステムは、インプラントアナログの補綴物接触面は、インプラントアナログの補綴物接触面がインプラントの補綴物接触面の一以上の部分に合致するように、インプラントの補綴物接触面の一以上の部分と同じ長手方向断面並びにインプラントのアバットメント部材接触面及び長手軸に対する位置を取り、インプラントアナログの補綴物接触面は、インプラントアナログの外周の周りの離散位置に及び／又はインプラントアナログのアバットメント部材接触面から離れた少なくとも１つの半径方向位置に配置され、したがって、インプラントの補綴物接触面に比べて、インプラントアナログの補綴物接触面は、少なくとも円周方向及び／又は半径方向に不連続である。【選択図】図６
