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Surface treatment method for fluid administration device
专利权人:
アプター フランス エスアーエス
发明人:
ブルーナ パスカル,ブサルド ドゥニ,ゲーナレック フレデリック
申请号:
JP2013517466
公开号:
JP2013533035A
申请日:
2011.07.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
A method of surface treating a fluid dispenser device, the method including a step of modifying at least one surface to be treated of at least a portion of the device by ionic implantation using multi-charged and multi-energy ion beams. The modified surface to be treated has anti-friction properties, the multi-charged ions are selected from helium (He), nitrogen (N), oxygen (O), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), and xenon (Xe), and ionic implantation is carried out to a depth of 0 mum to 3 mum.流体投与装置の表面処理方法であって、前記流体投与装置の少なくとも一部の1以上の処理対象表面を、多重荷電かつ多重エネルギのイオンビームを用いたイオン注入によって変化させる処理から成り、変化させられた後の前記処理対象表面は減摩擦特性を有し、前記多重荷電イオンは、ヘリウム(He)、窒素(N)、酸素(O)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、クリプトン(Kr)、キセノン(Xe)の中から選択され、イオン注入は0μmから3μmの深さまで実施される、という表面処理方法。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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