シリカ及び該シリカを用いた歯牙研磨剤

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专利权人:

TOSOH SILICA CORP

发明人:

KANEMITSU HIDEO,金満 秀夫,FUJIMOTO TOSHIKAZU,藤本 敏和,HASEGAWA MORITAKA,長谷川 謹崇

申请号：

JP2012246761

公开号：

JP2014094914A

申请日:

2012.11.08

申请国别(地区):

JP

年份:

2014

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide silica suitable for silica for tooth polishing and excellent in polishing force.SOLUTION: In silica of the present invention, a BET specific surface area is 20 to 80 m2/g, a CTAB specific surface area is 10 to 45 m2/g, and the CTAB specific surface area/the BET specific surface area is 0.3 to 0.8.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】歯牙研磨用シリカとして好適な、研磨力に優れたシリカを提供すること。【解決手段】BET比表面積が20~80m2/g、かつCTAB比表面積が10~45m2/gであり、(CTAB比表面積/BET比表面積)が0.3~0.8である、シリカ。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/