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フッ化イットリウム溶射材料及びオキシフッ化イットリウム成膜部品並びにそれらの製造方法
专利权人:
信越化学工業株式会社
发明人:
高井 康,濱谷 典明
申请号:
JP20160203613
公开号:
JP2017082325(A)
申请日:
2016.10.17
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【解決手段】Y5O4F7とYF3とを含み、Y5O4F7とYF3とが、Y5O4F7が30〜90質量%、残分がYF3であり、平均粒径が10μm以上60μm以下で、嵩密度が1.2g/cm3以上2.5g/cm3以下であるフッ化イットリウム溶射材料、及び基材にYOF、Y5O4F7及びY7O6F9から選ばれる少なくとも1種のオキシフッ化イットリウムを含む溶射膜が積層されてなるオキシフッ化イットリウム成膜部品。【効果】本発明のフッ化イットリウム溶射材料は、大気中プラズマ溶射したとき、オキシフッ化イットリウム溶射膜を得ることができる。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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