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AROMATIC RESINS FOR UNDERLAYERS
专利权人:
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
发明人:
Yamada Shintaro,Cui Li,Gilmore Christopher,Kaitz Joshua A.,Liu Sheng,Cameron James F.,Coley Suzanne M.
申请号:
US201715802089
公开号:
US2018158674(A1)
申请日:
2017.11.02
申请国别(地区):
美国
年份:
2018
代理人:
摘要:
Aromatic resin polymers and compositions containing them are useful as underlayers in semiconductor manufacturing processes.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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