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COMPOSITION BACTÉRICIDE OU DE STÉRILISATION ET MÉTHODE DE LUTTE CONTRE LES MALADIES
专利权人:
日産化学工業株式会社; LTD.;NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES;NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人:
KUWABARA, Hidehito,桑原 秀仁,HASUNUMA, Nakako,蓮沼 奈香子,FUKAMI, Yasuhiro,深見 泰弘,桑原 秀仁,蓮沼 奈香子,深見 泰弘
申请号:
JPJP2015/053385
公开号:
WO2015/119246A1
申请日:
2015.02.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
Provided are a novel pest control agent composition and, in particular, a composition for a sterilising agent. A sterilising or bactericidal composition which contains: one or more compounds selected from oxime-substituted amide compounds represented by formula (I), N-oxides thereof, and salts thereof; and one or more compounds selected from known sterilising or bactericidal compounds. [In the formula, G1 represents a structure such as G1-1 or G1-27, G2 represents a structure such as G2-2, W represents an oxygen atom or the like, X1 represents difluoromethyl, trifluoromethyl, or the like, X2, X3, X4, and X5 each independently represent a hydrogen atom or the like, Y1 represents a halogen atom or the like, Y2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or the like, Y3 represents a halogen atom, trifluoromethyl, an alkynyl containing 2-6 carbon atoms, or the like, Y4 represents a hydrogen atom or the like, R1 represents an alkyl containing 1-6 carbon atoms, a haloalkyl containing 1-4 carbon atoms, or the like, R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom, a methyl, or the like, R4 represents a hydrogen atom or the like, and R5 represents methyl or the like.]L'invention concerne une nouvelle composition à base d'un agent de lutte contre les organismes nuisibles et, en particulier, une composition pour agent de stérilisation. La présente invention concerne, donc, une composition bactéricide ou de stérilisation qui contient : un ou plusieurs composés choisis parmi des composés d'amides substitués par des oximes et représentés par la formule (I), leurs N-oxydes et leurs sels ; et un ou plusieurs composés choisis parmi des composés bactéricides ou de stérilisation connus. Dans la formule, G1représente une structure de type G1-1 ou G1-27, G2 représente une structure de type G2-2, W représente un atome d'oxygène ou équivalent, X1représente un difluorométhyle, un trifluorométhyle, ou équivalent, X2, X3, X4 et X 5 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogè
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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