Es wird ein Verfahren zum Beschichten eines Implantats (1), insbesondere einer Prothese, durch Aufbringen von geladenen Teilchen (T) mittels lontophorese auf zumindest einen Abschnitt (10, 20 110, 120) der Implantatoberfläche (3, 13) bereitgestellt. Bei dem Verfahren werden geladenen Teilchen in einem elektromagnetischen Feld (E) beschleunigt und treffen auf der Oberfläche (3, 13) des Implantats auf, um zumindest abschnittsweise eine Beschichtung auf dem Implantat auszubilden. Die geladenen Teilchen weisen zumindest einen Wirkstoff auf.The invention relates to a method for coating an implant (1), in particular a prosthesis, by applying charged particles (T) by means of iontophoresis to at least one section (10, 20 110, 120) of the implant surface (3, 13). In the method, charged particles are accelerated in an electromagnetic field (E) and hit the surface (3, 13) of the implant in order to form a coating on the implant at least in some sections. The charged particles have at least one active ingredient.Linvention concerne un procédé de revêtement dun implant (1), en particulier une prothèse, par application de particules chargées (T) par ionophorèse sur au moins une partie (10, 20 110, 120) de la surface (3, 13) de limplant. Dans le procédé, les particules chargées sont accélérées dans un champ électromagnétique (E) et viennent heurter la surface (3, 13) de limplant pour former au moins partiellement un revêtement sur limplant. Les particules chargées comportent au moins une substance active.
