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SEMICONDUCTOR MANUFACTURED NANO-STRUCTURES FOR MICROBE OR VIRUS TRAPPING OR DESTRUCTION
专利权人:
International Business Machines Corporation
发明人:
Yann Astier,David Esteban,Judson R. Holt,Henry K. Utomo
申请号:
US16733520
公开号:
US20200141845A1
申请日:
2020.01.03
申请国别(地区):
US
年份:
2020
代理人:
摘要:
A device for isolating a microbe or a virion includes a semiconductor substrate; and a trench formed in the semiconductor substrate and extending from a surface of the semiconductor substrate to a region within the semiconductor substrate; wherein the trench has dimensions such that the microbe or the virion is trapped within the trench.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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