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Verfahren zur Bestimmung einer Position einer Schicht bezüglich eines sich zu der Schicht bewegenden Bereiches und entsprechend ausgestaltete Magnetresonanzanlage
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
Jörg Roland,Eva Rothgang,Antje Kickhefel
申请号:
DE102010042518
公开号:
DE102010042518B4
申请日:
2010.10.15
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Verfahren zur Bestimmung einer Position einer Schicht (24) bezüglich eines sich relativ zu der Schicht bewegenden Bereiches (25) innerhalb eines vorbestimmten Volumenabschnitts eines Untersuchungsobjektes (O) mittels einer Magnetresonanzanlage (5), wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:ortsaufgelöstes Erfassen einer physikalischen Eigenschaft (T) für mindestens ein Voxel der Schicht (24) zu mehreren Zeitpunkten,Bestimmen eines zeitlichen Verlaufs der physikalischen Eigenschaft des mindestens einen Voxels, undBestimmen der Position der Schicht (24) jeweils zu bestimmten der Zeitpunkte bezüglich des Bereiches (25) abhängig von dem zeitlichen Verlauf (31).A method for determining a position of a layer (24) with respect to a moving relative to the layer area (25) within a predetermined volume portion of an object to be examined (o) by means of a magnetic resonance system (5), said method comprising the steps of:locally resolved detection of a physical property (t) for at least one voxel of the layer (24) to several times,Determining a time characteristic of the physical property of the at least one voxel andDetermining the position of the layer (24) in each case to certain of the points in time with respect to the region (25) a function of the time profile (31).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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