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SCAPHOLUNATE STABILIZATION GRAFT
专利权人:
发明人:
申请号:
HK12112544.2
公开号:
HK1171646A
申请日:
2012.12.05
申请国别(地区):
HK
年份:
2013
代理人:
摘要:
Implant de stabilisation scapho-lunaire, caractérisé en ce quil est constitué dune plaque (1 ) de forme oblongue exécutée dans un matériau doté dune capacité de déformation élastique, dont les extrémités sont munies dau moins un trou (2) permettant le passage de vis (3) de fixation, et dont la partie centrale présente une ouverture (4) délimitée par deux cotés (5) ou (5) opposés, un ressort (6) reliant deux points distants desdits cotés (5) ou (51), ce ressort étant disposé suivant la diagonale dans ladite ouverture.Implant de stabilisation scapho-lunaire, caractérisé en ce quil est constitué dune plaque (1 ) de forme oblongue exécutée dans un matériau doté dune capacité de déformation élastique, dont les extrémités sont munies dau moins un trou (2) permettant le passage de vis (3) de fixation, et dont la partie centrale présente une ouverture (4) délimitée par deux cotés (5) ou (5) opposés, un ressort (6) reliant deux points distants desdits cotés (5) ou (51), ce ressort étant disposé suivant la diagonale dans ladite ouverture.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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