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COMPOSITION, MATÉRIAU DE BASE MODIFIÉ, LINGETTES HUMIDES ET PULVÉRISATION
专利权人:
FUJIFILM CORPORATION;富士フイルム株式会社
发明人:
TOMIZAWA Hideki,冨澤秀樹
申请号:
JPJP2019/039420
公开号:
WO2020/090351A1
申请日:
2019.10.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Provided is a composition which can impart excellent antimicrobial properties to a base material and ensures excellent attachment of the antimicrobial agent to the base material. Also provided are a modified base material, a wet wiper, and a spray. The composition contains an antimicrobial agent and a siloxane compound.L'invention concerne une composition qui peut conférer d'excellentes propriétés antimicrobiennes à un matériau de base et assure une excellente fixation de l'agent antimicrobien au matériau de base. L'invention concerne également un matériau de base modifié, une lingette humide et un pulvérisateur. La composition contient un agent antimicrobien et un composé siloxane.基材に対して優れた抗菌性を付与でき、基材に付与された抗菌剤の固着性に優れる組成物、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーを提供する。組成物は、抗菌剤と、シロキサン化合物とを含む。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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