A method of making an electron beam irradiated osteoinductive implant is provided. The method comprises exposing an osteoinductive implant containing demineralized bone matrix (DBM) fibers to electron beam radiation at a dose of from about 10 kilograys to 100 kilograys for a period of time. The electron beam irradiation reduces microorganisms in the osteoinductive implant, and the electron beam irradiated osteoinductive implant retains osteoinductive properties. Methods of implantation and an irradiated osteoinductive implant are also disclosed.L'invention concerne un procédé de fabrication d'un greffon osseux ostéo-inducteur exposé à un faisceau électronique. Le procédé comprend l'exposition d'un greffon ostéo-inducteur contenant des fibres à matrice osseuse déminéralisée (MOD) à un rayonnement de faisceau électronique d'une dose comprise entre environ 10 kilograys et environ 100 kilograys pendant un laps de temps. Le rayonnement du faisceau électronique limite la présence de microorganismes dans le greffon ostéo-inducteur, et le greffon ostéo-inducteur exposé à un faisceau électronique conserve des propriétés ostéo-inductrices. L'invention concerne en outre des procédés de mise en œuvre et un greffon ostéo-inducteur exposé.
