一种制备量子点自组装膜的方法
- 专利权人:
- 国家纳米科学中心
- 发明人:
- 朱劲松,程志强,吴侠,杨鑫,周文菲,杨墨
- 申请号：
- CN201410720208.0
- 公开号：
- CN105714288B
- 申请日:
- 2014.12.01
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 郭广迅
- 摘要：
- 本发明提供了利用Ni‑NTA作用来制备量子点自组装膜的方法，该方法包括：在蒸镀金属层基底表面修饰羧基；在水溶性量子点表面修饰氮川三乙酸和二价镍离子；以及表面修饰羧基的蒸镀金属层基底浸在上述修饰氮川三乙酸和二价镍离子的量子点溶液中，真空条件下，使量子点组装在蒸镀金属层基底上。本发明还提供了包含蒸镀金属层基底以及通过上述方法制备的自组装膜的材料。本发明还提供所述自组装膜在光电材料、生物材料等领域的应用。本发明的制备方法操作简单、节省时间、可控性好，制备的量子点纳米颗粒自组装膜成膜性好、性质稳定，在光电材料，生物材料等领域都有广泛的应用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
