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CHARGED PARTICLE BEAM TREATMENT DEVICE
专利权人:
SUMITOMO HEAVY IND LTD;住友重機械工業株式会社
发明人:
KAMIGUCHI NAGAAKI,上口 長昭
申请号:
JP2018008828
公开号:
JP2019126462A
申请日:
2018.01.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a charged particle beam treatment device capable of suppressing an increase in a beam size while suppressing a decrease in a beam current of a charged particle beam.SOLUTION: A charged particle beam treatment device 1 includes: an accelerator 3 for accelerating a charged particle and emitting a charged particle beam B; an attenuation part 21 for lowering energy of the charged particle beam B by making the charged particle beam B emitted from the accelerator 3 incident; a magnetic field generation part 22 for generating a magnetic field H having a component in the same direction as an emission direction of the charged particle beam B in the attenuation part 21; and an irradiation part 2 for irradiating the charged particle beam B passing through the magnetic field generation part 22 onto a tumor (an irradiated body) 14.SELECTED DRAWING: Figure 5【課題】荷電粒子線のビーム電流の低下を抑制しつつ、ビームサイズの拡大を抑制することが可能な荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】荷電粒子線治療装置1は、荷電粒子を加速して荷電粒子線Bを出射する加速器3と、加速器3から出射された荷電粒子線Bを入射させることで、当該荷電粒子線Bのエネルギーを低下させる減衰部21と、減衰部21において、荷電粒子線Bの出射方向と同方向の成分を持つ磁場Hを発生させる磁場発生部22と、磁場発生部22を通過した荷電粒子線Bを腫瘍(被照射体)14に照射する照射部2と、を備える。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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