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Vorrichtung und Verfahren zur Dosierung einer Bestrahlung
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
Iwan Kawrakow,Mark Hastenteufel,Christian Scholz
申请号:
DE102011083414
公开号:
DE102011083414A1
申请日:
2011.09.26
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung Verfahren zur Regelung eines auf ein Objekt (43) gerichteten Behandlungsstrahls (47). Dabei weist das Verfahren folgende Schritte auf:a) Darstellen von mindestens einem mehrdimensionalen Bilddatensatzes, der zumindest einen Zielbereich des Objektes umfasst,b) Bestimmen der auf den Zielbereich gerichteten Behandlungsstrahldosis,c) Registrieren und gegebenenfalls Visualisieren einer von der Behandlungsstrahldosis abhängigen Isolinie oder Isofläche im mehrdimensionalen Bilddatensatz,d) Anpassen der Isolinie (I) oder Isofläche derart, dass sich diese möglichst nahe an die Kontur (V) des Zielbereichs annähert oder mit derselben übereinstimmt,e) Regelung der Behandlungsstrahldosis durch Auswertung der angepassten Isolinie oder Isofläche.The present invention relates to a method and a device method for controlling a to an object (43) directed treatment beam (47). In this case the method has the following steps:a) display of at least one multidimensional image data set, the at least one target area of the object comprises,b) determining the to the target area directed treatment beam dose,c) so as to register and, if appropriate, one of the treatment beam dose dependent iso-line or iso-surface in the multidimensional image data set,d) adjusting the iso-line (i) or iso-surface in such a way that they are as close to the contour (v) of the target area is approached or coincides with the same,e) control of the treatment beam dose by evaluating the adapted iso-line or iso-surface.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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