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Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Intensität eines Elektronenstrahles
专利权人:
KHS GmbH
发明人:
Gernot, Dr. Keil,Alois Monzel
申请号:
DE102009018210
公开号:
DE102009018210B4
申请日:
2009.04.21
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Verfahren zur Überwachung der Intensität eines, während seiner Ausbreitung ein Plasma erzeugenden Elektronenstrahls, wobei zur Erkennung von Änderungen der Intensität des Elektronenstrahles eine direkt oder indirekt vom Elektronenstrahl erzeugte Elektronenstrahlung oder elektromagnetische Strahlung detektiert und ausgewertet wird und wobei ein zur messtechnischen Erfassung einer direkt oder indirekt vom Elektronenstrahl erzeugten Elektronenstrahlung oder elektromagnetischen Strahlung ausgebildeter Detektor vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Detektor durch die Wandung eines transparenten oder durchscheinenden Packstoffes auf das Plasma schaut.A method for monitoring the intensity of, during its propagation of a plasma generating electron beam, wherein for the detection of changes in the intensity of the electron beam a directly or indirectly produced by the electron beam electron beams or electromagnetic radiation is detected and evaluated and wherein a for metrological detection of a directly or indirectly by the electron beam generated electron beams or electromagnetic radiation detector is provided which is constructed, characterized in that the detector through the wall of a transparent or translucent packing material on the plasma looks.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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