PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleanser composition that causes low irritation of the skin or hair, forms rich, smooth bubbles at washing, exerts high rinsing property and smoothness at rinsing and, after use, gives moderate feeling of residue remaining and imparts smoothness and moistness to the skin or hair.SOLUTION: The cleanser composition includes (A) an amphoteric surfactant represented by formula (1) (wherein: R1 is 8C-20C alkyl group R2 is hydrogen atom or 1C-2C alkyl group and n is an integer of 1-4) and (B) one or more cationized sugar derivative chosen from cationized locust bean gum, cationized tara gum and cationized starch.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】皮膚や毛髪に対する刺激性を抑え、洗浄時には豊かで滑らかな泡を実現し、すすぎ時にはすすぎ性とすべり性を与えるとともに、使用後は適度な後残り感、滑らかさ、潤い感が得られる洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】次の成分(A)及び(B):(A)一般式(1)(式中、R1は炭素数8~20のアルキル基を示し、R2は水素原子、又は炭素数1~2のアルキル基を示し、nは1~4の整数を示す)(B)カチオン化ローカストビーンガム、カチオン化タラガム及びカチオン化デンプンから選ばれる1種又は2種以上のカチオン性糖誘導体を含有する洗浄剤組成物。【選択図】なし
