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Compositions, methods and uses for cleaning, disinfection and / or sterilization
专利权人:
コリディオン,インコーポレイテッド
发明人:
アリミ,ホジャブル,プラサド,スリドハル ゴヴィンダ,デ,スリャ カンタ
申请号:
JP2020521481
公开号:
JP2020526577A
申请日:
2018.06.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present specification is composed of hypochlorous acid or available free chlorine and a composition comprising, consisting of, or consisting of one or more disinfectants, and hypochlorous acid or available free. A composition comprising or consisting essentially of chlorine, one or more disinfectants, and one or more surfactants, and hypochlorous acid or available free chlorine and one or more. A composition comprising or consisting essentially of a surfactant and a composition comprising or consisting of one or more guanide-containing compounds and one or more alcohols. And a kit comprising, or essentially consisting of, the disclosed composition, and methods and uses for cleaning, disinfecting, and / or sterilizing the device using the composition. Methods and uses for cleaning, disinfecting, and / or sterilizing surface areas using the composition, and methods and uses for cleaning, disinfecting, and / or sterilizing microbial infections in individuals using the composition. Disclosure with use.本明細書は、次亜塩素酸または利用可能な遊離塩素、および1つ以上の消毒剤を含むか、から本質的になるか、またはからなる組成物と、次亜塩素酸または利用可能な遊離塩素、1つ以上の消毒剤、および1つ以上の界面活性剤を含むか、から本質的になるか、またはからなる組成物と、次亜塩素酸または利用可能な遊離塩素および1つ以上の界面活性剤を含むか、から本質的になるか、またはからなる組成物と、1つ以上のグアニド含有化合物および1つ以上のアルコールを含むか、から本質的になるか、またはからなる組成物と、開示される組成物を含むか、から本質的になるか、またはからなるキットと、当該組成物を使用して装置を洗浄、消毒、および/または滅菌するための方法および使用と、当該組成物を使用して表面領域を洗浄、消毒、および/または滅菌するための方法および使用と、当該組成物を使用して個体における微生物感染を洗浄、消毒、および/または滅菌するための方法および使用とを開示する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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