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荷電粒子線照射装置
专利权人:
住友重機械工業株式会社
发明人:
立川 敏樹
申请号:
JP2008086554
公开号:
JP5107113B2
申请日:
2008.03.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam irradiating apparatus capable of applying charged particle beam by both a wobbler method and a scanning method.SOLUTION: The charged particle beam irradiating apparatus 1 includes scanning electromagnets 3a and 3b that scan a charged particle beam R, a wobbler irradiation means 5 that applies the charged particle beam using a wobbler method, a scanning irradiation means 6 that applies the charged particle beam R using a scanning method, and a control unit 7 that controls the wobbler irradiation means 5 and the scanning irradiation means 6. In the charged particle beam irradiating apparatus 1, the control unit 7 operates one of the wobbler irradiation means 5 and the scanning irradiation means 6, and controls the other irradiation means to be in a withdrawn state so as not to hinder the application of the charged particle beam R. Thus, the irradiation by the wobbler method and the irradiation by the scanning method can be achieved without adverse effect of one of them on the other.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】ワブラー法及びスキャニング法の双方によって荷電粒子線を照射することができる荷電粒子線照射装置を提供する。【解決手段】荷電粒子線照射装置1は、荷電粒子線Rを走査するための走査電磁石3a,3bと、荷電粒子線Rをワブラー法で照射するためのワブラー照射手段5と、荷電粒子線Rをスキャニング法で照射するためのスキャニング照射手段6と、ワブラー照射手段5及びスキャニング照射手段6を制御する制御装置7と、を備えている。荷電粒子線照射装置1では、制御装置7によって、ワブラー照射手段5又はスキャニング照射手段6の何れか一方を作動させると共に、何れか他方を荷電粒子線Rの照射が妨げられないように退避状態とする。よって、ワブラー法による照射及びスキャニング法による照射のそれぞれを、その一方が他方に悪影響を及ぼすことなく実現することができる。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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