足浴盆
- 专利权人:
- 北京每如誉科技发展有限公司
- 发明人:
- 刘敬田
- 申请号：
- CN201921873723.7
- 公开号：
- CN211324599U
- 申请日:
- 2019.11.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及洗浴工具技术领域，公开了一种足浴盆，包括盆体、脚底按摩器、和脚面清洗器，脚尖位于盆体第一端，脚跟位于盆体第二端，脚底按摩器和脚面清洗器都设置在盆体内，脚底按摩器包括主滚轮，主滚轮设置在靠近盆体第二端的位置，脚面清洗器设置在脚底按摩器的上方，脚面清洗器的轴线与主滚轮的轴线共同所在的平面与竖直平面之间设有夹角α、且脚面清洗器至盆体第一端的距离小于主滚轮至盆体第一端的距离。如此设置，解决了现有技术中脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，造成足浴盆靠近脚跟的盆壁和脚面清洗器之间的距离过小，双脚不易伸入足浴盆内部，使用感差的问题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
