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按摩足浴盆
专利权人:
薛泽凡
发明人:
薛泽凡
申请号:
CN201720068007.6
公开号:
CN206934009U
申请日:
2017.01.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
一种按摩足浴盆,包括盆体,盆体内部设有可容纳双脚的盆腔,所述盆腔包括呈匹配对称设置的左按摩区和右按摩区,位于左按摩区和右按摩区的上方设置一脚面按摩架,所述脚面按摩架包括转轴,转轴的两端通过扭簧铰接在盆腔的侧壁上,转轴上固定有矩形的左按摩架和右按摩架,左按摩架和右按摩架的矩形框架内均设置有3‑5个橡胶辊,左按摩架和右按摩架远离转轴的一端固定一搭脚杆,使用时,将双脚分别伸入至脚面按摩架与相对应的左按摩区、右按摩区之间,水平来回移动双脚,可以同时完成脚底与脚面的按摩与搓洗,洗完脚之后,向上提拉搭脚杆,使把手的挡止部卡设在限位凸台上,然后将双脚支撑在搭脚杆上即可达到晾脚的效果。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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