COSMETIC COMPOSITION FOR IMPROVING ACNE

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专利权人:

LTD.;CNPSKIN CO., LTD.;CNPSKIN CO.;주식회사 씨앤피코스메틱스

发明人:

LEE, DONG WON,이동원,CHA, MI KYUNG,차미경,LEE, HWA HYUN,이화현,PARK, JOON WOO,박준우,KIM, DONG MI,김동미,LEE, DONG WONKR,CHA, MI KYUNGKR,LEE, HWA HYUNKR,PARK, JOON WOOKR,KIM, DONG MIKR

申请号：

KR1020130023079

公开号：

KR1020140110168A

申请日:

2013.03.04

申请国别(地区):

KR

年份:

2014

代理人:

摘要：

The present invention relates to a cosmetic composition for alleviating acne. The cosmetic composition for alleviating acne comprises sulfur and dimethyl sulfone as active ingredients, and features that a weight ratio of sulfur to dimethyl sulfone is one to one.본 발명은 여드름 개선용 화장료 조성물에 관한 것이다. 상기 여드름 개선용 화장료 조성물은 유황(Sulfur) 및 디메칠설폰(Dimethyl Sulfone)을 유효성분으로 포함하고, 상기 유황 및 디메칠설폰은 1:1의 중량비인 것을 특징으로 한다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/