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SOURCE DE RAYONS X INTÉGRÉE
专利权人:
Ltd.;Shenzhen Xpectvision Technology Co.
发明人:
申请号:
EP17919529.2
公开号:
EP3658030A1
申请日:
2017.07.26
申请国别(地区):
EP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Disclosed herein is an X-ray source, comprising: a cathode in a recess of a first substrate; a counter electrode on a sidewall of the recess, configured to cause field emission of electrons from the cathode; and a metal anode configured to receive the electrons emitted from the cathode and to emit X-ray from impact by the electrons on the metal anode.La présente invention concerne une source de rayons X (201 1201,1301, 1401, 1501, 1601, 1701), comprenant : une cathode (212) dans un évidement (215) d'un premier substrat (210) ; une contre-électrode (220) sur une paroi latérale de l'évidement (215), configurée pour provoquer une émission de champ d'électrons à partir de la cathode (212) ; et une anode métallique (240) configurée pour recevoir les électrons émis par la cathode (212) et pour émettre un rayon X à partir d'un impact par les électrons sur l'anode métallique (240).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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