According to some aspects, a monochromatic x-ray source is provided. The monochromatic x-ray source comprises an electron source configured to generate electrons, a primary target arranged to receive electrons from the electron source to produce broadband x-ray radiation in response to electrons impinging on the primary target, and a secondary target comprising at least one layer of material capable of producing monochromatic x-ray radiation in response to incident broadband x-ray radiation emitted by the primary target.Selon certains aspects, l'invention concerne une source de rayons x monochromatiques. La source de rayons x monochromatiques comprend une source d'électrons configurée pour générer des électrons, une cible primaire conçue pour recevoir des électrons de la source d'électrons afin de produire un rayonnement de rayons x à large bande en réponse à des électrons incidents sur la cible primaire, ainsi qu'une cible secondaire comprenant au moins une couche de matériau capable de produire un rayonnement de rayons x monochromatiques en réponse à un rayonnement de rayons x à large bande incident émis par la cible primaire.
