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SYSTÈME D'IMAGERIE À PHASE DE RAYONS X
专利权人:
株式会社島津製作所;SHIMADZU CORPORATION
发明人:
MORIMOTO, Naoki,森本直樹,KIMURA, Kenji,木村健士,SHIRAI, Taro,白井太郎,DOKI, Takahiro,土岐貴弘,SANO, Satoshi,佐野哲,HORIBA, Akira,堀場日明
申请号:
JPJP2019/023129
公开号:
WO2020/054159A1
申请日:
2019.06.11
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
This X-ray phase imaging system is provided with: an X-ray source (1); a detector (2); multiple grids including a first grid (3) and a second grid (4); an image processing unit (5) which generates a phase contrast image (10); and a control unit (6) which, by means of a cubic function represented using position coordinates of a pixel (P) in the generated phase contrast image, approximates an artifact (21) generated in the phase contrast image and corrects the phase contrast image.La présente invention concerne un système d'imagerie à phase de rayons X comprenant : une source de rayons X (1) ; un détecteur (2) ; de multiples grilles comprenant une première grille (3) et une seconde grille (4) ; une unité de traitement d'image (5) qui génère une image de contraste de phase (10) ; et une unité de commande (6) qui, au moyen d'une fonction cubique représentée à l'aide de coordonnées de position d'un pixel (P) dans l'image de contraste de phase générée, se rapproche d'un artefact (21) généré dans l'image de contraste de phase et corrige l'image de contraste de phase.このX線位相撮像システム(100)は、X線源(1)と、検出器(2)と、第1格子(3)と第2格子(4)とを含む複数の格子と、位相コントラスト画像(10)を生成する画像処理部(5)と、生成された位相コントラスト画像における画素(P)の位置座標を用いて表される3次関数によって、位相コントラスト画像に生じたアーティファクト(21)を近似し、位相コントラスト画像の補正を行う制御部(6)と、を備える。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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