Provided is a hydroponics apparatus (1) for raising a plant body (100) having a main root (101) and lateral roots (102), wherein the hydroponics apparatus (1) has: a supporting section (11) for supporting the plant body (100) main root watering sections (12, 13) for watering the main root (101) by spraying a liquid in an atomized state onto the main root (101) lateral root watering sections (31, 32, 33) for watering the lateral roots (102) by soaking the lateral roots (102) in a liquid and a controller (3) for adjusting the spraying interval and/or the spraying time period by controlling the main root watering sections (12, 13). The controller (3) limits the spraying amount of the liquid sprayed onto the main root (101) to an amount required for the main root (101).La présente invention concerne un appareil de culture hydroponique (1) destiné à faire pousser un corps végétal (100) comprenant une racine principale (101) et des racines latérales (102), ledit appareil de culture hydroponique (1) comprenant : une section de support (11) destinée à supporter le corps végétal (100) des sections (12, 13) dirrigation de la racine principale destinées à irriguer la racine principale (101) en pulvérisant un liquide à létat atomisé sur ladite racine principale (101) des sections (31, 32, 33) dirrigation des racines latérales destinées à irriguer les racines latérales (102) en trempant lesdites racines latérales (102) dans un liquide et un dispositif de commande (3) destiné à ajuster lintervalle de pulvérisation et/ou la période de pulvérisation en commandant les sections (12, 13) dirrigation de la racine principale. Ledit dispositif de commande (3) limite la quantité de pulvérisation du liquide pulvérisé sur la racine principale (101) à une quantité nécessaire pour la racine principale (101).主根101と側根102とを有する植物体100を育成する水耕栽培装置1であって、植物体100を支持する支持部11と、主根101に霧状に液体を噴霧することにより主根101への潅水を行う主根潅水部12、13と、側根102を液体に浸すことにより側根102への潅水を行う側根潅水部31、32、33と、主根潅水部12、13による噴霧間隔又は噴霧時間の少なくとも一方を調整する制御部3
