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Cultivation system
专利权人:
株式会社リコー
发明人:
平野 敏明
申请号:
JP2019025907
公开号:
JP2020130015A
申请日:
2019.02.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cultivation system which enables efficient cultivation of a plant by appropriately irradiating the plant with light in each growth process of the plant and improves productivity. SOLUTION: An irradiation device 100 in which a plurality of light sources 112 are arranged along a first direction X and a plant S irradiated with light by the irradiation device 100 along the first direction X can be planted. In the cultivation system 500 having a cultivation board 200 in which a plurality of parts 211 are arranged, the distance between the light sources 112 arranged in plurality along the first direction X of the irradiation device 100 can be changed. A cultivation system 500, wherein a plurality of planting portions 211 arranged along the first direction X of the cultivation board 200 can be spaced apart from each other. FIG. 41.【課題】植物の各成長過程において適切に光を植物へ照射することにより効率的な植物の栽培を可能とし、生産性を向上した栽培システムの提供。【解決手段】第一方向Xに沿って、光源112が複数配置される照射装置100と、前記第一方向Xに沿って、前記照射装置100によって光が照射される植物Sを定植可能な定植部211が複数配置される栽培ボード200と、を有する栽培システム500であって、前記照射装置100の前記第一方向Xに沿って複数配置される前記光源112の間隔が変更可能であり、前記栽培ボード200の前記第一方向Xに沿って複数配置される前記定植部211の間隔が変更可能であることを特徴とする栽培システム500。【選択図】図41
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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