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用于配置抗散射格栅的过程和装置
专利权人:
通用电气公司
发明人:
H·苏沙伊,M·奇萨鲁克
申请号:
CN201110463233.1
公开号:
CN102579065A
申请日:
2011.12.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及用于配置抗散射格栅的过程和装置。本发明描述了用于在乳腺X射线照相装置中配置抗散射格栅的过程和装置,该乳腺X射线照相装置包括:-射线源,-射线探测器,包括以间距周期性布置的传感器网络,-抗散射格栅,布置在源和探测器之间,且包括射线吸收层板,其彼此平行地布置并以格栅的间距pg间隔,该源能够朝向探测器发射射线以获得患者的乳腺X射线照相图像,所述过程的特征在于,在发射射线期间,执行抗散射格栅和探测器之间的相对位移,格栅的层板定向为与患者可倚靠其而定位的格栅侧面平行,并且格栅的间距与探测器的间距相适应。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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