A method of coating a substrate surface by PECVD comprises generating a plasma from gas reactants comprising an organic silicon precursor and, optionally, O2 is provided. Lubricity, hydrophobicity and / or blocking of the coating castle is set by setting the electric power which is used to set the ratio of O2 for the organosilicon precursor in the gas reactants and / or to generate plasma. In particular, a lubricous coating produced by the above method is provided. In addition, the use of the container to protect from the container and the mechanical and / or chemical effects of the coated or immersed in a container vessel that is not coated with the surface coating material storage compound or composition by the above method is provided.유기실리콘 전구체 및 선택적으로 O2를 포함하는 가스 반응물질로부터 플라즈마를 생성하는 단계를 포함하는 PECVD에 의한 기판 표면을 코팅하는 방법이 제공된다. 코팅의 윤활성, 소수성 및/또는 차단성은 가스 반응물질 내의 O2대 유기실리콘 전구체의 비를 설정하고/하거나 플라즈마를 생성하기 위해 사용되는 전력을 설정함으로써 설정된다. 특히, 상기 방법에 의해 제조된 윤활성 코팅이 제공된다. 또한, 상기 방법에 의해 코팅된 용기 및 상기 코팅된 용기 내에 담겨지거나 수납된 화합물 또는 조성물을 코팅되지 않은 용기 물질 표면의 기계적 및/또는 화학적 영향으로부터 보호하는 상기 용기의 용도가 제공된다.
