PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film glass electrode for plasma generation of flexible electrode structure applicable to a device for plasma processing a workpiece by generating plasma with low voltage, and capable of improving treatment efficiency by decreasing electric field resistance.SOLUTION: In an electrode 10 for plasma generation generating plasma with low voltage including a flexible thin film glass 11, a first electrode 12 provided on one side of the thin film glass, and a second electrode 12 provided on the opposite side to the first electrode, and generating plasma from the first electrode along the thin film glass, the value of resistance of the first electrode is 1 μΩcm-0.9 Ωcm.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT【課題】低電圧でプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置に適用でき、可撓性を有する電極構造とし、電界抵抗値を下げて処理効率を向上させるような構造のプラズマ発生用薄膜ガラス電極を提供すること。【解決手段】低電圧でプラズマを発生させるための電極10であって、可撓性を有する薄膜ガラス11と、薄膜ガラスの一方の面に設けられている第1電極12と、第1電極と反対面に設けられている第2電極12と、を備え、第1電極から薄膜ガラスに沿ってプラズマを発生させるようにしたプラズマ発生用電極であって、第1電極の抵抗値が1μΩcm~0.9Ωcmであることを特徴とする。【選択図】 図1
