LEE, WON HEE,이원희,CHO, YU JEONG,조유정,KIM, YOUNG HOON,김영훈,JANG, WOO HYUK,장우혁
申请号：
KR1020100076274
公开号：
KR1020120014306A
申请日:
2010.08.09
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要：
PURPOSE: A porous implant fixture and a manufacturing method thereof are provided to be used for a dental implant fixture and to reduce treatment period.CONSTITUTION: A porous implant fixture is as follows. The porous implant fixture is a sintered body of titanium or titanium alloy powder. On the surface of the porous implant fixture, hydroxyapatite is deposited. In the central part of the sintered body, a core is formed.COPYRIGHT KIPO 2012본 발명은, 티타늄 또는 티타늄 합금 분말의 소결체로서, 표면에 하이드록시 아파타이트가 석출되어 있는 것을 특징으로 하는 다공성 임플란트 픽스쳐를 제공하는데, 여기서 소결체의 중심부에는 소결 시 형성된 코어를 갖는 것이 바람직하고, 표면의 하이드록시 아파타이트 석출물은, 수 나노미터에서 수백 마이크로미터의 크기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명은, 표면에 하이드록시 아파타이트가 도핑 된 티타늄 또는 티타늄 합금 분말을 원하는 형상의 몰드에 장입하고 전기 방전 소결을 수행하고 소결체에 열수 처리를 수행하여 소결체 표면에 하이드록시 아파타이트를 석출시키는 것을 특징으로 하는 다공성 임플란트 픽스쳐의 제조방법을 제공한다.
