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PH-SENSITIVE HYALURONIC ACID DERIVATIVE AND USE THEREOF
专利权人:
INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人:
YANG, JEAN-DEAN,CHOU, AYI-MAN,CHEN, JUI-HSIANG,LIU, HSIA-WEI,WANG, SHIAN-JY,TENG, TSE-MIN,LIANG, HSIANG-FA,WEI, MING-CHENG,LU, MAGGIE, J., M.
申请号:
CNCN2011/084936
公开号:
WO2013/097152A1
申请日:
2011.12.29
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
Disclosed is a pH-sensitive hyaluronic acid derivative, comprising at least one repeating unit as shown in the following formula (I), wherein HA represents a unit comprising N-acetyl-D-glucosamine and D-glucuronic acid, q represents an integer of 2 to 10,000 A represents a biologically breakable bond comprising at least one group of hydrazone, acetal, ketal or imine M represents at least one of a hydrophobic fragment, a hydrophilic fragment, or an amphiphilic fragment, and p represents the number [A-M] directly grafted onto each HA unit, p being an integer of 0 to 4, and the p of each HA unit not being 0 at the same time.La présente invention concerne un dérivé dacide hyaluronique sensible au pH, comprenant au moins un motif de répétition comme décrit dans la formule suivante (I), dans laquelle HA représente un motif comprenant la N-acétyl-D-glucosamine et lacide D-glucuronique, q représente un entier de 2 à 10 000 A représente une liaison biologiquement clivable comprenant au moins un groupe hydrazone, acétal, cétal ou imine M représente au moins lun parmi un fragment hydrophobe, un fragment hydrophile, ou un fragment amphiphile, et p représente le nombre [A-M] directement greffé sur chaque motif HA, p étant un entier de 0 à 4, et le p de chaque motif HA nétant pas 0 simultanément.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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