制造具有中空支撑件的支架的方法
- 专利权人:
- 美敦力瓦斯科尔勒公司
- 发明人:
- C·斯道蒙特
- 申请号：
- CN201180034232.3
- 公开号：
- CN103167845B
- 申请日:
- 2011.07.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 包括中空支撑件的支架形成于圆筒形基质上。支架的支撑件通过将支撑件的金属层电铸到在经样式设置的光致抗蚀剂材料内形成的开口内来形成。形成内支撑件材料的第一金属层（106）在第一光致抗蚀剂材料内的开口内形成。用于形成空腔（126）以使支撑件中空的牺牲材料在第二光致抗蚀剂材料内的开口内形成。形成支撑件的侧壁和外壁的第二金属层（122）在第三光致抗蚀剂材料的开口内并围绕牺牲材料形成。去除光致抗蚀剂材料。去除基质和空腔牺牲材料，从而形成为支架图案的中空支撑件。中空支撑件可填充有用于洗脱的治疗物质。可在形成过程中形成通过支撑件到空腔的开口（124）。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
