The present invention relates to an apparatus designed to control the application of the previously uncontrollable reaction of a peroxide composition and an alkaline composition, and accurately maintain the desired composition ratios for removal of and destruction of microbiological and organic contamination on a surface safely and without waste of the materials. The apparatus may also be used to maintain the highest demulsifying and antimicrobial activity of an organic acid composition blended with a peroxide composition by limiting contact time and the level of degradation of the components of the organic acid composition. A method of using the apparatus is provided for removing biofilm, bacteria, fungal cells, spores, fragments, and hyphae, microbiological slime, and organic contaminants from porous and non-porous surfaces, maintaining the integrity and life expectancy of the substrates, and increasing their resistance to new biofilm formation and microbiological deposition.La présente invention concerne un appareil conçu pour commander lapplication de la réaction préalablement incontrôlable dune composition de peroxyde et dune composition alcaline, et maintenir précisément les rapports de composition souhaités pour lélimination et la destruction de la contamination microbiologique et organique sur une surface de façon sûre et sans perte de matériaux. Lappareil peut également être utilisé pour maintenir lactivité de désémulsification et antimicrobienne la plus élevée dune composition dacide organique mélangée avec une composition de peroxyde en limitant le temps de contact et le taux de dégradation des composants de la composition dacide organique. Linvention concerne un procédé dutilisation de lappareil pour éliminer un biofilm, des bactéries, des cellules fongiques, des spores, des fragments, et des hyphes, une vase microbiologique, et des contaminants organiques à partir de surfaces poreuses et non poreuses, maintenir lintégrité et lespérance de vie des substr
