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樹脂製マイクロニードルとその形成方法および3次元パターンの形成方法
专利权人:
KINKI UNIV
发明人:
KATO NOBUHIRO,加藤 暢宏
申请号:
JP2017046613
公开号:
JP2017202302A
申请日:
2017.03.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem with respect to a microneedle having a reinforcement structure at its root, the microneedle being capable of being obtained only by forming a concave mold using photolithography and electrocasting its transfer mold.SOLUTION: A method for forming a resin microneedle includes: a step of applying negative-type photoresist 10 onto a transparent substrate 12 a step of arranging a mask 16 in a movable manner on the reverse side of the transparent substrate 12s surface on which the negative-type photoresist 10 is applied a step of irradiating the mask 16 with ultraviolet light having a first wavelength from the side opposite to the transparent substrate 12 and simultaneously making the mask 16 and the transparent substrate 12 move relatively and a step of irradiating the mask 16 with ultraviolet light having a second wavelength from the side opposite to the transparent substrate 12 and simultaneously making the mask 16 and the transparent substrate 12 move relatively so that at least part of an irradiated area overlaps with an area irradiated with the ultraviolet light having the first wavelength.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】根元に補強構造を有するマイクロニードルを得るには、フォトリソグラフィを用いて凹み型を作製し、その転写型を電鋳することでしか得ることができなかった。【解決手段】透明基板12上にネガ型フォトレジスト10を塗布する工程と、前記透明基板12の前記ネガ型フォトレジスト10を塗布した面の裏面に移動可能にマスク16を配置する工程と、前記マスク16に対して前記透明基板12とは反対側から第1の波長の紫外線を照射しながら前記マスク16と前記透明基板12を相対的に移動させる工程と、前記マスク16に対して前記透明基板12とは反対側から第2の波長の紫外線を照射しながら前記第1の波長が照射された領域に少なくとも一部が重なるように前記マスク16と前記透明基板12を相対的に移動させる工程を有することを特徴とする樹脂製マイクロニードルの形成方法。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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