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UVC照射处理容器
- 专利权人:
- 大山宣夫
- 发明人:
- 大山宣夫
- 申请号：
- CN202180046917.3
- 公开号：
- CN115803066A
- 申请日:
- 2021.06.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 在与外部在光学上被阻断的容器内通过UVC照射对流体进行的连续杀菌过程中，为了大幅度地提高每单位的UVC能量照射流体中的杀菌分解对象的比例，大幅度地增大自UVC光源接受照射的流体的进深，以均匀的量向流入的流体中的全部杀菌分解对象进行UVC能量照射。为了使向上述容器流入的流体整体以同一容器内移动时间从容器流出，在容器内以最大限度地接受来自UVC光源的放射的角度且以在一个端部使包含流体的流出流入口在内的供流体通过的开口部在相邻之间位于彼此相反侧的端部的方式设置单个或多个由UVC高透射材料形成的分隔壁，从而向该容器流入的流体形成沿着分隔壁的层地流动，从分隔壁的开口部进而向流动层一个接一个地弯折，在容器的整个区域范围内形成互相重叠的一连串的流动层，透射这些层地照射UVC。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
