双腔室流体处理系统
- 专利权人:
- 青净光能科技股份有限公司
- 发明人:
- 李大青
- 申请号：
- CN202121527969.6
- 公开号：
- CN216377562U
- 申请日:
- 2021.07.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2022
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型提供一种双腔室流体处理系统，其包括有：一第一腔室与一第二腔室相连通，一层流装置设置于所述第一腔室与所述第二腔室之间，所述第一腔室设置有一第一光源模块以及一入口提供一流体输入；所述第二腔室设置有一第二光源模块以及一出口提供所述流体输出；所述层流装置具有多个透孔，所述多个透孔具有一直线内壁与所述第二腔室之腔壁平行。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
