A hair cleansing agent composition or a skin cleansing agent composition comprising (A) an anionic surfactant, (B) an amphoteric surfactant, (C) a silicone, and (D) a nonionic surfactant having an unsaturated or branched alkyl group, wherein the ratio of the content of the anionic surfactant (A) to the content of the amphoteric surfactant (B) (i.e., (component (A))/(component (B))) is 1.5 to 3.5 inclusive by mass and the ratio of the content of the silicone (C) and the content of the nonionic surfactant (D) having an unsaturated or branched alkyl group (i.e., (component (D))/(component (C))) is 0.1 or more by mass.(A) 아니온성 계면활성제와, (B) 양성 계면활성제와, (C) 실리콘류와, (D) 불포화 또는 분기 알킬기를 갖는 비이온성 계면활성제를 함유하고, 상기 (A) 아니온성 계면활성제와, 상기 (B) 양성 계면활성제와의 질량비((A)성분/(B)성분)가 1.5 이상 3.5 이하이고, 또한, 상기 (C) 실리콘류와, 상기 (D) 불포화 또는 분기 알킬기를 갖는 비이온성 계면활성제와의 질량비((D)성분/(C)성분)가 0.1 이상인 모발 세정제 조성물 또는 피부 세정제 조성물이다.
