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用于物理气相沉积的腔室
- 专利权人:
- 应用材料公司
- 发明人:
- R·欣特舒斯特,L·利珀特
- 申请号：
- CN201180026737.5
- 公开号：
- CN102918622A
- 申请日:
- 2011.05.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 胡林岭`刘佳
- 摘要：
- 提供了一种用于物理气相沉积的腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)。腔室包含外壳(210;310;410;510;610;710;910;1010)、腔门(220;320;420;520;620;720;920;1100;1220)，用于开启与关闭该外壳；以及轴承(240;340;440;540;640;740;940;1140;1240)，用于容置靶材(230)，其中轴承位于第一方向(260)中。此外，腔室适于使得在该第一方向中使该靶材至少部分移除于该腔室外。根据实施例，提供了一种用于物理气相沉积的腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)。该腔室适于容置至少一靶材(230)与基板。该腔室包含外壳、腔门与至少一轴承以固定该靶材，其中该轴承装设至腔门。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
