您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

ドープポリマー上に電気的に接触可能な領域を製造する方法およびその方法により製造される成形物体
专利权人:
ロンザ ケルン ゲーエムベーハー
发明人:
ミュラー-ハルトマン、ヘルベルト,フェルンバッハ、エヴァルト,シーベンコッテン、グレゴル
申请号:
JP2011041257
公开号:
JP5124661B2
申请日:
2011.02.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of generating at least one electrically contactable area on a polymer doped with conductive substance.SOLUTION: A contact material 10, 11 is applied onto the polymer, and the contact material 10, 11 has a lower specific resistance at 23°C than the polymer. The contact material 10, 11 is applied onto the polymer so tightly that it is in close contact with the conductive substance. Due to the tight application of the contact material 10, 11, which has a lower specific resistance than the polymer, the input resistance of the doped polymer is effectively reduced. The invention further provides a formed body 1, 2 made of a polymer which is doped with a conductive substance, which has at least one contactable area, within which a contact material 10, 11 is applied onto the polymer, wherein the contact material 10, 11 has a lower specific resistance at 23°C than the polymer. The contact material 10, 11 is applied onto the polymer so tightly that it is in close contact with the conductive substance. Such formed body 1, 2 has a significantly reduced input resistance.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】導電性物質でドープされたポリマーに少なくとも1つの電気接触可能な領域を製造方法を提供する。【解決手段】ポリマーに接触材料10、11が付され、接触材料10、11がポリマーより低い23℃の比抵抗を有する。接触材料10、11は、導電性物質と密に接触するようにポリマーへ密接に付される。ポリマーより低い比抵抗の接触材料10、11が密接して付されることで、ドープポリマーの入力抵抗が効率的に低減する。さらに、導電性物質でドープされたポリマーから製造され、少なくとも1つの電気接触可能な領域を備え、領域内で接触材料10、11がポリマーに付され、接触材料10、11がポリマーよりも低い23℃における比抵抗を有する成形物体1、2の提供。接触材料10、11は、導電性物質と密に接触するようにポリマーへ密接に付されている。このような成形物体1、2は、著しく低減された入力抵抗を示す。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充