The present invention relates to defoaming compositions comprising compounds having the formula C5H11CH(CH2CH2CH3)CH2O(CH2CH(X)O)nH (I) where X═(CH2)aCH3 where a=0 or 1 and where n=0.5-5; and one or more hydrotropes selected from the group consisting of branched or linear C4-C10 alkyl glycosides and optionally one or more anionic hydrotrope selected from the group consisting of fatty acid soaps where the acyl group contains 10-22 carbon atoms, and which could be saturated or unsaturated, linear or branched; or a sulfonate chosen from the group cumene sulfonate and xylene sulfonate, and the use of such compositions as defoaming and/or antifoaming agents. The invention also pertains to a composition comprising a) a compound C5H11CH(CH2CH2CH3)CH2O(CH2CH(X)O)nH (I) where X═(CH2)aCH3 where a=0 or 1 and n=0.5-5 b) one or more hydrotrope selected from the group consisting of branched or linear C4-C10 alkyl glycosides, c) optionally one or more anionic hydrotrope selected from the group consisting of fatty acid soaps where the acyl group contains 8-22, preferably 9-18 carbon atoms, and which could be saturated or unsaturated, linear or branched; or a sulfonate chosen from the group cumene sulfonate and xylene sulfonate, and d) N,N-bis(3-aminopropyl)dodecylamine.本発明は、式C5H11CH(CH2CH2CH3)CH2O(CH2CH(X)O)nH(I)[式中、X=(CH2)aCH3(a=0又は1である)であり、n=0.5~5である]を有する化合物;並びに分枝状又は線状C4-C10アルキルグリコシドからなる群より選択される1種又はそれ以上のヒドロトロープ並びに場合により、アシル基が10~22個の炭素原子を含有し、飽和若しくは不飽和であってよく、線状若しくは分枝状であってよい脂肪酸石鹸;又はクメンスルホネート及びキシレンスルホネートの群から選択されるスルホネートからなる群より選択される1種若しくはそれ以上のアニオン性ヒドロトロープを含む脱泡組成物、並びに脱泡剤及び/又は消泡剤としてのそのような組成物の使用に関する。本発明はまた、a)化合物C5H11CH(CH2CH2CH3)CH2O(CH2CH(X)O)nH(I)[式中、X=(CH2)aCH3(a=0又は1である)であり、n=0.5~5である](b)分枝状又は線状C4-C10アルキルグリコシドからなる群より選択される1種又はそれ以上のヒドロトロープ、c)場合により、アシル基が8~22個、好ましくは9~18個の炭素原子を含有し、飽和若しくは不飽和であってよく、線状若しくは分枝状であってよい脂肪酸石鹸;又はクメンスルホネート及びキシレンスルホネートからなる群より選択されるスルホネートの群から選択される1種若しくはそれ以上のアニオン性ヒドロトロープ、並びにd)N,N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンを含む組成物に関する。