粒子线治疗系统
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 远竹聪,梅泽真澄,今川知久
- 申请号：
- CN201310123504.8
- 公开号：
- CN103357124A
- 申请日:
- 2013.04.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 根据本发明，能够提供一种粒子线治疗系统，其在实施依次地变更从加速器射出的射束的能量的扫描照射方式时，能够抑制由于电磁铁的初始化动作而导致的治疗时间延长。照射控制装置（35）具备以下的方法，即按照各照射条件（能量条件）运算输送系统的偏向电磁铁（15、20A、20B、20C）的励磁电流设定值，与照射时序一致地设定适当的励磁电流值。更详细地说，照射控制装置（35）预先将与离子束的能量水平对应地决定的基准电流值存储在电流供给控制表（1）中，将与离子束的能量水平和能量的变更次数对应地决定的修正电流值存储在电流供给补偿值表（2、3）中，计算上述电磁铁的励磁电流值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
