化妆料及其制造方法
- 专利权人:
- 株式会社IHI
- 发明人:
- 江口晴树,渕上健儿
- 申请号：
- CN201180061012.X
- 公开号：
- CN103429217A
- 申请日:
- 2011.11.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种化妆料及其制造方法，该化妆料对UV-A和UV-B具有充分的遮蔽效果，即使配合在化妆料中也不会着色，并且在涂抹于肌肤时不会不自然地泛白。该化妆料中的InTaO4的至少一部分被Sc、Ti、V、Cr、Mn、Co、Cu、Ga、Ge、As、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、Sn、Sb、Hf、W、Re、Os、Ir、Pt、Au和Hg中的至少一种元素取代。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
