您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

TREATMENT PLANNING DEVICE, TREATMENT PLANNING METHOD, CONTROL DEVICE AND PARTICLE RAY TREATMENT SYSTEM
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
FUJITAKA SHINICHIRO,藤高 伸一郎,HIRAYAMA KOSUKE,平山 嵩祐,UMEZAWA MASUMI,梅澤 真澄
申请号:
JP2016013903
公开号:
JP2017131399A
申请日:
2016.01.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems in continuous beam radiation, in which it is impossible to increase beam intensity for radiation, and a long treatment time is often required.SOLUTION: A radiation area in which an electric charge particle beam is radiated is divided into a plurality of layers 52 in a travel direction of the electric charge particle beam. A spot determination part 1 arranges a plurality of radiation spots 53 in the plurality of layers 52. A group division part 2 classifies the radiation spots into groups according to at least one of a distance between the radiation spot and other radiation spot in the same layer, and a target dose of each radiation spot. A planning part 3 plans to continue emission of the electric charge particle beam during change of the radiation position from the radiation spot belonging to a certain group to a next radiation spot, and to stop emission of the electric charge particle beam during change of the radiation position from the radiation spot belonging to a certain group to the radiation spot belonging to other group in the same layer as the certain group.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】連続ビーム照射の場合はビーム強度を上げて照射することができず、治療時間が長くなる傾向にあった。【解決手段】荷電粒子ビームを照射する照射領域を荷電粒子ビームの進行方向に複数の層52に分割して、スポット決定部1は、複数の層52に複数の照射スポット53を配置し、グループ分割部2は、同じ層内の照射スポットと他の照射スポットとの距離、又は各照射スポットの目標線量の少なくともいずれか一方に応じて、前記照射スポットをグループに分け、計画部3は、あるグループに属する前記照射スポットから次の照射スポットに照射位置を変更する間、前記荷電粒子ビームの出射を継続し、あるグループに属する前記照射スポットから当該あるグループと同じ前記層にある他のグループに属する照射スポットに照射位置を変更する間、前記荷電粒子ビームの出射を停止させるように計画をすることによって上記課題を解決する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充