高分子处理剂
- 专利权人:
- 那野伽利阿株式会社
- 发明人:
- 石井健太,小久保美穗,中冨一郎,加藤泰己,加藤佐季子
- 申请号:
- CN201680012186.X
- 公开号:
- CN107249560A
- 申请日:
- 2016.02.29
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明提供一种包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物的高分子处理剂。该高分子处理剂不仅适用于头发的护理,还能够适用于包含睫毛和眉毛的体毛的护理,即使是极微量的使用,也能够在不使用硅酮成分的情况下提高毛发的物理强度。对于受损发能够特别显著地发挥该强度提高作用。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心