SHIM, WOO SUN,심우선,KIM, DONG CHAN,김동찬,HWANG, YOUNG MIN,황영민,LEE, SUN HWA,이선화,KANG, NAE GYU,강내규,PARK, SUN GYOO,박선규,LEE, CHEON KOO,이천구,SHIM, WOO SUNKR,KIM, DONG CHANKR,HWANG, YOUNG MINKR,LEE, SUN HWAKR,KANG, NAE GYUKR,PARK, SUN GYOOKR,LEE, CHEON KOOKR
申请号：
KR1020140094220
公开号：
KR1020160012593A
申请日:
2014.07.24
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要：
The present invention relates to a system for applying retinol to skin, having the stability of retinol, reducing the skin stimulation of retinol, and continuously maintaining the effect. The system has technical characteristics of being a microneedle including microparticles including retinol or a retinol derivative. Provided in the present invention is a method for manufacturing a retinol application system reducing skin stimulation, maintaining the effect of retinol for a long time, and having the stability of retinol which is unstable under light, moisture, temperature, etc. Provided in the present invention is a method for applying retinol to the skin, using the microneedle.본 발명은 레티놀의 안정성이 확보되고, 레티놀의 피부 자극을 줄이며, 효과를 지속적으로 발휘할 수 있는 레티놀 피부 투여 시스템에 관한 것으로서, 레티놀 또는 레티놀 유도체를 포함하는 마이크로파티클이 첨가된 마이크로니들인 것을 기술적 특징으로 한다. 본 발명은 또한 피부 자극이 줄어들고, 레티놀의 효과를 장기간 발휘할 수 있으며, 빛, 습기, 온도 등에 매우 불안정한 레티놀의 안정성을 확보할 수 있는 레티놀 투여 시스템의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 이러한 마이크로니들을 이용하는 것을 특징으로 하는 레티놀의 피부 투여 방법을 제공한다.
