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High Frequency Complex Therapy
专利权人:
CHOI, SUNG A;최성아
发明人:
CHOI, SUNG A,최성아,CHOI, SUNG AKR
申请号:
KR1020180055241
公开号:
KR1020190130751A
申请日:
2018.05.15
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention relates to a high-frequency complex therapy device, and more particularly, to a high-frequency complex therapy device which can be properly used for obesity treatment as well as skin beauty, pain relief and metabolism enhancement by supplying a high-frequency voltage with low loss due to a control signal of a CPU to each of a pain relief electrode and a metabolic activation foot contact electrode through a capacitive electric transfer (CET) and an obesity treatment electrode conductor through a resistive electric transfer (RET).본 발명은 고주파 복합 치료기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 용량성 전류 통전 방식(CET : Capacitive Electric Transfer)을 통한 통증완화용 전극 도자 및 신진대사 활성화용 발 접촉 전극 도자와 저항성 전류 통전 방식(RET : Resistive Electric Transfer)을 통한 비만 치료용 전극 도자 각각에 중앙제어장치(CPU)의 제어 신호에 의하여 손실이 적은 고주파 전압을 각각 공급하여 피부미용 및 통증완화 및 신진대사 증진은 물론 비만치료에 적합하게 사용할 수 있도록 하는 복합 기능을 가지는 고주파 복합 치료기에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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