A charged particle beam emission system and a method for controlling the same, wherein an accelerator is operated through combining single emission operation and multistage emission operation, thereby making it possible to improve the dose rate. Among layers set on the basis of the shape of an affected area by a treatment planning device (140), a layer that is deemed to require a higher target irradiation dose than the irradiation dose that can be applied in a single cycle of single emission operation of a synchrotron (12) is irradiated with a beam in a single emission operation. At the point in time at which, at the end of the operation cycle of the synchrotron (12), the remainder of the target emission dose for the layer falls below the irradiation dose that can be applied in a single cycle of a single emission operation, a transition is made to irradiating the next layer. The above procedure is repeated to the final layer. The method for operating the synchrotron (12) is switched from single emission operation to multistage emission operation, the irradiation operation returns to irradiating the first layer, and layers for which irradiation is not complete are sequentially irradiated.Linvention concerne un système démission de faisceau de particules chargées et son procédé de commande. Un accélérateur est exploité par combinaison dune opération démission unique et dune opération démission à plusieurs étages, moyennant quoi il est possible daméliorer le débit de dose. Parmi des couches définies sur la base de la forme dune zone affectée par un dispositif de planification de traitement (140), une couche qui est considérée comme exigeant une dose dexposition cible supérieure à la dose dexposition qui peut être appliquée en un seul cycle dopération démission unique dun synchrotron (12) est exposée à un faisceau dans une opération démission unique. À linstant auquel, à la fin du cycle de fonctionnement du synchrotron (12), le reste de la dose démission cible pour la c
