A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas； transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP； followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.Un método de tratamiento de un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende la producción del gas reactivo mediante la formación de un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo； el traslado del gas reactivo a al menos 5 cm del HVCP； seguido del contacto del producto o superficie con el gas reactivo. El HVCP no entra en contacto con el producto o superficie.
